慧巖儀器供應(yīng)MC-2000C涂鍍層測厚儀 

MC-2000C型涂層測厚儀（鍍層測厚儀）測量范圍：0～5000um，是高新技術(shù)的結(jié)晶,它采用單片機(jī)技術(shù)，精度高、數(shù)字顯示、示值穩(wěn)定、功耗低、操作簡單方便、觸摸按鍵、單探頭全量程測量、體積小、重量輕；且具有存儲、讀出、統(tǒng)計(jì)、低電壓指示、系統(tǒng)校準(zhǔn)，其性能達(dá)到當(dāng)代國際同類儀器的先進(jìn)水平。

應(yīng)用范圍：

涂層測厚儀儀器采用磁性測厚法，可以方便無損地測量鐵磁材料上非磁性涂層的厚度，如鋼鐵表面上的鋅、銅、鉻等鍍層或油漆、搪瓷、玻璃鋼、噴塑、瀝青等涂層的厚度。該儀器廣泛應(yīng)用于機(jī)械、汽車、造船、石油、化工、電鍍、噴塑、搪瓷、塑料等行業(yè)。

產(chǎn)品特點(diǎn) 

● 液晶數(shù)字顯示、功耗低、體積小、重量輕 ● 內(nèi)部電路采用單片機(jī)技術(shù)，精度高、示值穩(wěn)定 ● 無校正旋鈕、單探頭全量程測量 ● 具有存儲、讀出、統(tǒng)計(jì)、低電壓指示； ● 可進(jìn)行零點(diǎn)校準(zhǔn)、兩點(diǎn)校準(zhǔn)及系統(tǒng)校準(zhǔn) ● 方便無損地測量鐵磁材料上非磁性涂層的厚度，如鋼鐵表面上的鋅、銅、鉻等鍍層或油漆、搪瓷、玻璃鋼、橡膠、噴塑、瀝青等涂層的厚度● 具有自動(dòng)關(guān)機(jī)和手動(dòng)關(guān)機(jī)兩種方法 ● 可打印測量值，選配微型打印機(jī)

技術(shù)參數(shù)：

愛克特電子型涂鍍層測厚儀概況：測頭主機(jī)一體，結(jié)構(gòu)緊湊，單手操作；研制的測頭頂部由非常耐磨的硬制材料制成，使用而不損壞。標(biāo)準(zhǔn)箔及標(biāo)準(zhǔn)板可安全地存放在內(nèi)置儲存?zhèn)}內(nèi)。儀器隨測頭型號的不同有三種類型：F型測頭采用磁感應(yīng)原理，在鋼鐵基材上測量。N型測頭采用電渦流原理，在有色金屬基材測量。FN兩用型測頭可在所有金屬基材上測量。儀器符合DIN、ISO、BS、ASTM標(biāo)準(zhǔn)。

愛克特電子型涂鍍層測厚儀技術(shù)參數(shù):

全球款手提式 X-射線鍍層測厚儀

這一款手提式測厚儀，在大型材料及各種形狀配件鍍層厚度的無損檢測上有著明顯的優(yōu)勢。

具備“批量測試”模式，即一次可以測量出一批小樣品的總鍍層厚度及平均鍍層厚度

可廣泛應(yīng)用于建筑材料，電子，鍍金行業(yè)及公證/檢測機(jī)構(gòu)的鍍層檢測。

配置說明：

微型銀或鎢X-射線管，5個(gè)準(zhǔn)直器。

檢測器：半導(dǎo)體高分辯率的檢測器。

電源供應(yīng)：包含兩塊可充電鋰電池和充電器。

操作溫度：-10 ~50攝氏度

FP軟件測試包：測鍍層薄膜厚度及金屬元素分析

涂鍍層測厚儀采用了磁性測厚法，是一種超小型測量儀，它能快速、無損傷、精頦地進(jìn)行鐵磁性金屬基體上的覆層厚度的測量?？蓮V泛用于制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測領(lǐng)域。由于該儀器體積小，測頭與儀器一體化，特別適用于工程現(xiàn)場測量。  涂鍍層測厚儀詳細(xì)說明     TT220采用了磁性測厚法，是一種超小型測量儀，它能快速、無損傷、精頦地進(jìn)行鐵磁性金屬基體上的覆層厚度的測量?？蓮V泛用于制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測領(lǐng)域。由于該儀器體積小，測頭與儀器一體化，特別適用于工程現(xiàn)場測量。 涂鍍層測厚儀主要功能 　　可進(jìn)行零點(diǎn)校準(zhǔn)及二點(diǎn)校準(zhǔn)。 　　可對測頭進(jìn)行基本校準(zhǔn)。 　　設(shè)有五個(gè)統(tǒng)計(jì)量：平均值（MEAN）、最大值（MAX）、最小值（MIN）、測試次數(shù)（NO）、標(biāo)準(zhǔn)偏差（S.DEV）。 　　可存貯和統(tǒng)計(jì)計(jì)算15個(gè)測量值。 　　具有兩種測量方式：連續(xù)測量方式（CONTINUE）和單次測量方式（SINGLE）。 　　具有自動(dòng)關(guān)機(jī)功能。 　　刪除功能：對測量中出現(xiàn)的單次可疑數(shù)據(jù)進(jìn)行刪減       操作過程有蜂鳴聲提示。 　　有欠壓指示功能。 　　有錯(cuò)誤提示功能。 主要技術(shù)指標(biāo) 　　測量原理：磁性法 　　測量范圍:1～1250μm 　　測量精度：±（3%H+1）μm（零點(diǎn)校準(zhǔn)） 　　　　　　　±[(1～3)%H+1] μm（二點(diǎn)校準(zhǔn)）