無掩模光刻機/直寫光刻機產品及廠家
無掩模光刻機vpg 300 di是一款體積圖案發(fā)生器，為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結構而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 vpg 系統(tǒng)組件，能夠以高的精度和準確度進行書寫。大寫入區(qū)域覆蓋 300 mm 晶圓。
更新時間:2024-08-14
dwl 2000 gs / dwl 4000 gs 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)灰度光刻進行了優(yōu)化，設計用于集成電路、mems、微光學和微流體器件、傳感器、全息圖以及鈔票的防偽特征的掩模和晶圓的高通量圖案化。
更新時間:2024-08-14
mpo 100雙光子聚合直寫光刻機是一種雙光子聚合 （tpp） 多用戶工具，用于微結構的 3d 光刻和 3d 顯微打印，適用于微光學、光子學、微機械學和生物醫(yī)學工程。模塊化 3d 打印平臺 mpo 100 可按需提供高精度 3d 光刻以及 3d 顯微打印的高打印量，并能夠在單個工藝步驟中以高吞吐量生產復雜的功能性微結構。
更新時間:2024-08-14
speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機，其無掩膜光刻機配備了先進的高速空間光調制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一基礎上，擁有了更高的光刻效率。其的性能特點使其特別適合小批量生產的場景。在該場景中，它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢，為生產帶來更高的效率和更好的質量。
更新時間:2024-08-14
bio系列是生命科學版的無掩膜紫外光刻機，該設備具有更高的深寬比，能滿足生命科學域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微流控芯片的制造過程中，其高深寬比和高靈活性的特點得以展現，可確保芯片的質量和性能。這使得它成為生命科學研究和相關應用中的重要工具。
更新時間:2024-08-14
pg 300 di 是一款體積圖案發(fā)生器，為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結構而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 vpg 系統(tǒng)組件，能夠以高的精度和準確度進行書寫。大寫入區(qū)域覆蓋
更新時間:2024-08-14
ultra半導體光掩模光刻機是門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備，包括微控制器、電源管理、led、物聯網 （iot） 和 mems。ultra 是一種經濟型光刻機解決方案，具有高吞吐量、精度和結構均勻性以及其精確的對準所需的所有特性和功能。標準配置包括全自動掩模處理、zerodur® 平臺、低失真光學元件和高精度位置控制等功能。
更新時間:2024-08-14
mla 300 無掩模光刻機 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) （mes） 的集成。該工具用于生產傳感器和傳感器 ic、mems 和微流體器件。其他應用包括分立電子元件、模擬和數字 ic、asic、電力電子、oled 顯示器和先進封裝。
更新時間:2024-08-14
els-boden σ這是elonix自創(chuàng)業(yè)以來多年來一直致力于開發(fā)的新型號的電子束光刻設備。 采用模塊系統(tǒng)，可以自由組合加速電壓、腔室尺寸、傳輸機構和防振臺，為每個應用構建佳單元。
更新時間:2024-08-09
els-boden是由elionix開發(fā)的電子束光刻設備，非常適合研究和開發(fā)！支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應用。
更新時間:2024-08-09
els-hayate是由elionix研發(fā)的超高吞吐量電子束光刻設備，提供業(yè)界大的 5 毫米偏轉。，非常適合需要關注字段間拼接錯誤的應用。
更新時間:2024-08-09
實驗室攪拌機系列e30-h電動數顯攪拌器（型）e30-h應用領域|上海小型無刷攪拌機*_e30-h適用于生物、理化、化妝品、保健品、食品、試劑等實驗領域。是液體混和攪拌的實驗設備。產品理念設計新穎、制
更新時間:2024-06-09
dali無掩膜納米光刻機是一款采用亞納米精度激光操控技術為核心的超穩(wěn)定，桌面型，高精度，高速激光直寫設備。其核心技術已經在在亞納米精度要求的儀器設備中經過十幾年的應用檢驗。超高精度，和超高穩(wěn)定性是dali無掩膜納米光刻機實現高性能的基礎。
更新時間:2023-08-18
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